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UNIPOL-1203化學機械磨抛機，适(shì)用于CMP平坦化和平滑化工藝技術， 整機研磨部分采用防腐材料，耐化學腐蝕，配置(zhì)自動滴料器和精密磨抛控制儀，全自動觸摸屏面闆，從加工性能和速度上同時(shí)滿足晶圓等面型加工的需求。
UNIPOL-1260真空加熱調壓研磨抛光機可用于對于人工晶體、陶瓷、紅外光學材料（如硒化鋅、硫化鋅、矽、鍺等晶體）、石英玻璃、岩石等材料的研磨抛光，以及白寶石、藍寶石等硬脆性材料的研磨抛光。本機載樣盤采用真空吸附方(fāng)式，研磨盤可加熱至150℃，且溫度可控。
UNIPOL-1500M-16自動壓力研磨抛光機主要用于材料研究領域。适(shì)用于金(jīn)屬、陶瓷、玻璃、紅外光學材料（如硒化鋅、硫化鋅、矽、鍺等晶體）、岩樣、礦樣、複合材料、有機高分子材料等材料樣品的自動研磨抛光，也可用于工廠的小規模生産。該機具有加工精度高，性能穩定可靠，操作簡單，适(shì)用範圍廣的特點。
UNIPOL-800M多點機械壓力研磨抛光機采用三點機械彈簧加壓，頂柱在壓力彈簧的作用下将載物盤中的樣件(jiàn)壓在旋轉(zhuǎn)的磨抛盤上，使(shǐ)樣件(jiàn)在一定壓力下随着盤的移動進行研磨抛光，從而實現(xiàn)樣件(jiàn)定位與磨抛。還特别設有一個機械支撐臂磨抛工位，可進行易解理、易破碎材料的磨抛，磨抛樣品的過程中，固定有樣品的重力載物盤随着機械擺臂的擺動進行磨抛，
UNIPOL-1200M自動壓力研磨抛光機主要用于材料研究領域，廣泛使(shǐ)用于各(gè)大專院校、科研院所實驗室的金(jīn)屬、陶瓷、玻璃、紅外光學材料（如硒化鋅、硫化鋅、矽、鍺等晶體）、岩樣、礦樣、複合材料、有機高分子材料等材料樣品的自動研磨抛光，尤其适(shì)用于研磨經鑲嵌後(hòu)呈圓柱狀的小塊樣品，另可用于锆石測年靶材制備以及工廠的小規模生産等。
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